快科技讯 12月22日消息，荷兰芯片制造设备的行业巨头阿斯麦（ASML）宣布，已向全球半导体行业领导者英特尔派送了首台先进的高数值孔径（NA）极紫外（EUV）光刻机。此举象征着半导体制造业迈向更高精度加工的新篇章。
光刻技术在芯片制造中扮演着关键角色，主要用于在硅片上精确绘制电路图案。NA值是光学系统性能的一个重要参数，指的是系统能够接收光的角度范围大小。传统光刻机系统的NA值相对较低，限制了它们绘制的图案的最小尺寸。新一代高NA EUV光刻机采用了更大的NA值，不仅能够提高分辨率，还能绘制更微小、更复杂的电路，进而加速晶片性能的提升。
据报道，每台这样的高NA EUV光刻机制造成本超过3亿美元（约合人民币21.4亿元），价格之高无疑说明了其卓越的技术水平和制造能力。英特尔作为全球芯片行业的领跑者，对此次交付的重视不言而喻。配备了这项先进制造设备的英特尔，未来十年内有望生产出更小型、性能更强的芯片产品，为其在激烈的市场竞争中抢占先机。
阿斯麦在推送此消息时附带了一张光刻机从荷兰维尔德霍芬总部启航的照片，展示了机器部件被包装进一个装有红色丝带的保护盒中，彰显了它的珍贵及运输中的必要谨慎。此外，阿斯麦表示，这台设备组装完毕后体积将足以超过一辆大型货车，并需通过250个单独的板条箱运送至客户手中，包括13个大型集装箱。
英特尔预期将从2026年或2027年开始，利用此光刻机进行商用芯片的批量生产。不仅如此，其它几家在全球半导体产业占有一席之地的企业如台积电、三星、SK海力士以及美光等，同样表现出了对这款高科技光刻机的极大兴趣，并已经下了订单。
这一消息显示了半导体行业技术进步的速度，同时也预示着芯片制造将进入一个新的时代。在竞争日益白热化的市场，掌握尖端生产技术对于半导体企业来说是生存和发展的关键。阿斯麦和英特尔的这次成功合作，将进一步推动整个行业技术的飞速发展，也将为消费者带来性能优越的电子产品。
